A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
silicinom masculí |
Revista de Tecnologia (2004) Freqüència: 17 La integració a gran escala en silici és determinant. |
Revista de Tecnologia (2004) Freqüència: 17 Els sistemes de commutació i els terminals es basen en l’electrònica, els ordinadors, la integració en silici, el software i, recentment, en tecnologies òptiques. |
Revista de Tecnologia (2004) Freqüència: 17 La llei de Moore Mite III: Cada 18 mesos es duplica la capacitat d’integració en un xip de silici (llei de Moore). |
Revista de Tecnologia (2004) Freqüència: 17 La tecnologia estàndard actual d’integració en xips de silici és de 300 nm (dimensió de l’element més petit enregistrable) i la tecnologia punta és de 130 nm (Motorola), i les previsions són que aquest mateix any ja es comencin a fer xips amb tecnologia de 90 nm i que el 2005 s’assoleixin els 65 nm, sempre amb tecnologia CMOS (semiconductor complementari d’òxid metàl·lic). |
Revista de Tecnologia (2004) Freqüència: 17 La tecnologia de silici finalment tindrà un límit (més endavant s’indiquen algunes dificultats actuals amb què topa) i per això ja s’estan desenvolupant tecnologies alternatives que permeten treballar fins i tot amb àtoms i molècules. |
Revista de Tecnologia (2004) Freqüència: 17 Els problemes amb què es troba la tecnologia de silici i altres tecnologies, que ja s’estan manifestant actualment, són els següents: — Cada cop és més difícil resoldre els problemes d’escalfament, retards, connectivitat i descàrregues electrostàtiques. |
Revista de Tecnologia (2004) Freqüència: 17 Passa,però,quelainversióenproducciómicroelectrònica (foundries o foses de silici) és més alta com més petita és la tecnologia i només es pot justificar si es fabriquen grans quantitats (molts milions) de xips. |
Revista de Tecnologia (2004) Freqüència: 17 La capacitat d’integració en silici no és suficient per a l’evolució prevista dels encaminadors de la xarxa troncal. |
Revista de Tecnologia (2004) Freqüència: 17 La capacitat d’integració en silici sembla insuficient, però probablement serà suficient per als terminals i la perifèria de la xarxa. |
Institut d'Estudis Catalans. Carrer del Carme 47. 08001 Barcelona.
Telèfon +34 932 701 620. informacio@iec.cat - Informació legal
2022
Aquesta obra està subjecta a una llicència de Reconeixement-NoComercial-CompartirIgual 4.0 Internacional de Creative Commons